• 缸体深，更易捞片 ; 缸体宽，可以一次性连续摊片• 仪器后方具有载玻片干燥区域• 配有摊片机盖，可以减少空气中杂质的污染、水过度蒸发，提高加热效率• 过温自动保护系统• Ag+ 银离子抗菌涂层可抑制细菌生长

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  高通量、全自动电脑软件控制操作友好的图形化操作界面整合优化的CCD利于方面快速选择打孔区域组织数据库利于快速便捷打孔轨迹

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RETSCH MM301型号的球磨机适用于碾磨、混合小量的样品处理，它不但适 用于干性样品而且同样适用于湿性样品；同时MM301也可用于生物细胞的破 碎及DNA、RNA的分离；MM301是RETSCH公司很有代表性的产品之一，MM301 能够保证可信的分析结果，是质量控制和研发的理想选择。

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分析用研磨机

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自由组合，4层为一组，容量大，蜡块柜每组可放16500个标准蜡块，柜体采用0.8MM冷扎钢板，经防锈处理，静电喷塑工艺，整体造型精致、美观大方，抽屉带自动回缩功能，新采用槽式滑轮，另配高弹性减震垫，使抽屉关闭自如，不易滑落，噪音低。

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研磨仪

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使用Leica PELORIS II，您将对获得高质量的脱水效果充满信心。并且，通过快速的周转时间，精益的实验室组织处理以及当天的诊断，为您带来实验室工作流程的革新。

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产品性能特点◇ 所有温度均可各自编程◇ 自动计算预热时间，自动开机/关机◇ 各个单元进行单独操作◇ 石蜡缸：容积为5L◇ 工作区域有照明◇ 石蜡流出手动控制或通过脚踏开关控制◇ 流量连续设定◇ 宽大的冷台◇ 冷台低降至

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• 手动切片• 双导轨刀架• W 型废屑槽有效避免碎屑堆积• 切片厚度 0.5-60 μm• 修片厚度 10 μm/30 μm• 单手操作调节 X/Y 轴，精确定位• 切片厚度左右两侧均可调

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• 节省空间，占地小• 背光灯开关位于仪器前方• 光滑的黑色加热表面，增加载玻片的可视性• 固定 75℃加热• 抑菌涂层

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